A → 2R 인 기체상 반응은 기초 반응(elementary Teaction)이다. 이 반응이 순수한 A 로 채워진 부피가 일정한 회분식(batch) 반응기에서 일어날 때 10분 반응후 전화율이 80% 이었다. 이 반응을 순수한 A 를 사용하며, 공간시간(space time)이 10분인 mixed flow 반응기에서 일으킬 경우 A 의 전화율은 약 얼마인가…

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화공기사(구)

A → 2R 인 기체상 반응은 기초 반응(elementary Teaction)이다. 이 반응이 순수한 A 로 채워진 부피가 일…

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A → 2R 인 기체상 반응은 기초 반응(elementary Teaction)이다. 이 반응이 순수한 A 로 채워진 부피가 일정한 회분식(batch) 반응기에서 일어날 때 10분 반응후 전화율이 80% 이었다. 이 반응을 순수한 A 를 사용하며, 공간시간(space time)이 10분인 mixed flow 반응기에서 일으킬 경우 A 의 전화율은 약 얼마인가?

91.5%

80.5%

65.5%

51.5%

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